お客様の声

半導体材料メーカー技術開発部門の方【セミナーご利用】

『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』受講

◆当セミナーの参考になった内容、印象に残った内容
NAND以外のNIL利用分野

◆当セミナーの利用を検討されている方へ向けたメッセージ
リーズナブルで内容も分かりやすいので一度参加してみて欲しい

電気機器メーカー開発部門の方【セミナーご利用】

『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』受講

◆当セミナーの参考になった内容、印象に残った内容
NILとEUVが競合するのではなく、共に発展していくことをご教示頂いたこと

◆当セミナーの利用を検討されている方へ向けたメッセージ
短時間のセミナーですが、豊富な資料も頂くことが出来、密度の濃い情報を入手することが出来ます。

素材メーカーの方【セミナーご利用】

『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』受講

◆当セミナーの参考になった内容、印象に残った内容
ナノインプリントとeuvの比較

◆当セミナーの利用を検討されている方へ向けたメッセージ
課題を共有化しそれぞれの立場でオールジャパンで推進しましょう。

受講者の方【セミナーご利用】

『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』受講

◆当セミナーの参考になった内容、印象に残った内容
２つの技術を比較する形式であった点

受講者の方【セミナーご利用】

『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』受講

◆当セミナーの参考になった内容、印象に残った内容
ナノインプリントがメモリーで使われる可能性

機械メーカー マーケット部門の方【セミナーご利用】

『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』受講

◆当セミナーの参考になった内容、印象に残った内容
型に石英を使っているという事実

半導体製造装置のマーケティング部門の方【セミナーご利用】

『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』受講

◆当セミナーの参考になった内容、印象に残った内容
ナノインプリントとEUVの果たす役割