発明塾®動画セミナー『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』をリリースしました！

2023年12月22日（金）に実施された、『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー　～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』の内容を収録した動画セミナーの販売を開始しました。

「動画セミナーのお申込みページ」

https://e-hatsumeijuku.techno-producer.com/nanoimprint-lithography-euv

【動画セミナーの内容】

✓ キヤノンがリリースしたナノインプリント装置を、ASML社のEUV露光装置と比較し、ナノインプリントがEUVにどこまで対抗できるかを分析します。「ナノインプリント装置が今後の半導体業界にどの程度の影響を与えるか？」を把握したい方にオススメです。

✓ キヤノンとASMLの技術資料や特許情報を分析し、両社の装置の内部構造を詳しく解説します。装置の性能向上における課題も紹介するので、今後のナノインプリント・EUV露光装置の開発において求められるコンポーネントを知りたい方には最適な内容です。

✓ ナノインプリントに使われるUV硬化剤や、EUV露光に使われるレジスト材料の開発動向も紹介します。ラムリサーチのドライレジスト技術など海外メーカーの動向も紹介するので、ナノインプリント・EUVに関連した材料メーカーの最新情報をまとめて効率的に理解できます。

✓ 背景となる情報として、2nmプロセス開発をリードするTSMCや、AI時代の半導体市場を牽引するNVIDIAなど、半導体市場の今後を見通すキーになる企業の動向も解説します。半導体の製造プロセスと市場がどのように進化するかを見極めたい方に、羅針盤となる情報をお届けします。

「動画セミナーのお申込みページ」

https://e-hatsumeijuku.techno-producer.com/nanoimprint-lithography-euv