『ナノインプリント・EUV比較分析セミナー ～キヤノンのナノインプリントはEUVの2nmプロセスをリプレースできるか？ IRと特許情報から分析！～』受講
◆当セミナーの参考になった内容、印象に残った内容
NILとEUVが競合するのではなく、共に発展していくことをご教示頂いたこと
◆当セミナーの利用を検討されている方へ向けたメッセージ
短時間のセミナーですが、豊富な資料も頂くことが出来、密度の濃い情報を入手することが出来ます。
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